ဖိအားမြင့်ဖိအားအာရုံခံကိရိယာ YN52S00027P1 သည် Shengang ၏ SK200-6 excavator အတွက်သင့်လျော်သည်။

◆ အလွန်မြင့်မားသောဖိအားအဆို့ရှင်များတွင် အသုံးပြုသည့်ပစ္စည်းများအတွက်၊ ၎င်းတို့၏ extrusion resistance နှင့် erosion resistance ပိုမိုကောင်းမွန်စေရန်အတွက် အပူကုသမှုနှင့် မျက်နှာပြင် မာကျောခြင်းကို များသောအားဖြင့် အသုံးပြုကြသည်။

1, လေဟာနယ်အပူကုသမှု

Vacuum heat treatment ဆိုသည်မှာ workpiece အား လေဟာနယ်ထဲတွင် ထည့်ထားသည့် အပူကုသမှု လုပ်ငန်းစဉ်ကို ရည်ညွှန်းသည်။ဖုန်စုပ်စက် အပူကုသမှုသည် အပူပေးနေစဉ်အတွင်း ဓာတ်တိုးခြင်း၊ ကာဗူရီရှင်းနှင့် အခြားချေးများကို မထုတ်ပေးသော်လည်း မျက်နှာပြင်ကို သန့်စင်စေခြင်း၊ ချေဖျက်ခြင်းနှင့် ချေဖျက်ခြင်း စသည့် လုပ်ဆောင်ချက်များလည်း ပါဝင်သည်။အရည်ကျိုစဉ်အတွင်း ပစ္စည်းမှစုပ်ယူသော ဟိုက်ဒရိုဂျင်၊ နိုက်ထရိုဂျင်နှင့် အောက်ဆီဂျင်တို့ကို လေဟာနယ်တွင် ဖယ်ရှားနိုင်ပြီး ပစ္စည်း၏ အရည်အသွေးနှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို မြှင့်တင်နိုင်ပါသည်။ဥပမာအားဖြင့်၊ W18Cr4V ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသော အလွန်မြင့်မားသောဖိအားဆေးထိုးအပ်အဆို့ရှင်၏ လေဟာနယ်အပူကို ကုသပြီးနောက်၊ ပင်အပ်အဆို့ရှင်၏ အကျိုးသက်ရောက်မှုသည် ထိထိရောက်ရောက်တိုးလာပြီး တစ်ချိန်တည်းတွင် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများနှင့် ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။

2. မျက်နှာပြင်အားကောင်းအောင် ကုသခြင်း။

အစိတ်အပိုင်းများ၏စွမ်းဆောင်ရည်ကိုမြှင့်တင်ရန်အတွက်၊ ပစ္စည်းကိုပြောင်းလဲခြင်းအပြင်၊ မျက်နှာပြင်အားကောင်းစေသောကုသမှုနည်းလမ်းများကိုအသုံးပြုသည်။မျက်နှာပြင် quenching (flame heating, high and medium frequency heating surface quenching, contact electric heating surface quenching, electrolyte heating surface quenching, laser electron beam heating surface quenching, etc.), carburizing, nitriding, cyaniding, boronizing (TD method)၊ လေဆာအားကောင်းခြင်း၊ ဓာတုငွေ့ထုတ်လွှတ်ခြင်း (CVD နည်းလမ်း)၊ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ အခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (PVD နည်းလမ်း)၊ ပလာစမာ ဓာတုအငွေ့ထုတ်ခြင်း (PCVD နည်းလမ်း) ပလာစမာ ပက်ဖြန်းခြင်း စသည်တို့။

ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ အငွေ့ထုတ်ခြင်း (PVD နည်းလမ်း)

လေဟာနယ်တွင်၊ ရေငွေ့ပျံခြင်း၊ အိုင်းယွန်းဖြင့် ပွန်းပဲ့ခြင်း နှင့် sputtering ကဲ့သို့သော ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာနည်းလမ်းများကို သတ္တုအိုင်းယွန်းများထုတ်လုပ်ရန် အသုံးပြုသည်။ဤသတ္တုအိုင်းယွန်းများကို သတ္တုအပေါ်ယံလွှာအဖြစ်ဖွဲ့စည်းရန် သို့မဟုတ် ဒြပ်ပေါင်းအပေါ်ယံလွှာတစ်ခုအဖြစ် ဓာတ်ပေါင်းဖိုနှင့် ဓာတ်ပြုရန်၊ ဤသတ္တုအိုင်းယွန်းများကို အလုပ်ခွင်၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် စုဆောင်းထားသည်။ဤကုသမှုလုပ်ငန်းစဉ်ကို အတိုကောက်အားဖြင့် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့ထုတ်ခြင်း သို့မဟုတ် PVD ဟုခေါ်သည်။ဤနည်းလမ်းသည် low deposition temperature၊ 400 ~ 600 ℃ ကုသမှုအပူချိန်၊ သေးငယ်သောပုံပျက်ခြင်းနှင့် အစိတ်အပိုင်းများ၏ matrix ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံနှင့် ဂုဏ်သတ္တိများအပေါ် သြဇာသက်ရောက်မှုအနည်းငယ်ရှိသည်။PVD နည်းလမ်းဖြင့် W18Cr4V ဖြင့် ပြုလုပ်ထားသော အပ်အဆို့ရှင်တွင် TiN အလွှာကို အပ်နှံထားသည်။TiN အလွှာသည် အလွန်မြင့်မားသော မာကျောမှု (2500～3000HV) ရှိပြီး အဆို့ရှင်၏ ချေးခံနိုင်ရည်ကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေသည့် ခံနိုင်ရည်မြင့်မားသော ဝတ်ဆင်မှု ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး၊ အပျော့စား ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ်၊ ဆာလဖူရစ်အက်ဆစ်နှင့် နိုက်ထရစ်အက်ဆစ်တို့၌ ပုပ်သွားခြင်းမရှိဘဲ တောက်ပသောမျက်နှာပြင်ကို ထိန်းသိမ်းထားနိုင်သည်။PVD ကုသမှုပြီးနောက်၊ အပေါ်ယံပိုင်းသည် ကောင်းမွန်တိကျသည်။၎င်းကို မြေပြင်နှင့် ပွတ်တိုက်နိုင်ပြီး ၎င်း၏ မျက်နှာပြင် ကြမ်းတမ်းမှုသည် Ra0.8µm ဖြစ်ပြီး ပွတ်ပြီးနောက် 0.01µm အထိ ရောက်ရှိနိုင်သည်။